Absolute deposition rate of silver nanoparticles
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The deposition rate for different values of discharge power as a function of pressure (orifice diameter) at constant argon flow (90 sccm) for DC sputtering mode.
直流溅射模式下，氩气流速固定为90 sccm时，不同放电功率取值对应的沉积速率随压强（或孔径）变化的关系数据集。
创建时间：
2025-05-19
