MoS2基复合薄膜真空高温摩擦学性能及其机理研究
收藏中国科学院兰州化学物理研究所科学数据中心2023-08-17 更新2024-04-26 收录
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资源简介：
采用闭合场非平衡磁控溅射技术分别制备了纯MoS2薄膜以及MoS2-Ti和MoS2-Ti-TiB2复合薄膜，利用真空高温摩擦试验机对比考察三种薄膜在真空环境中25~300 ℃下的摩擦学性能，通过拉曼光谱(Raman)、X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)等分析复合元素对薄膜结构的影响以及摩擦前后薄膜结构的变化，探讨摩擦磨损机理. 结果表明：纯MoS2薄膜以(002)和(100)晶面取向生长，结构疏松，硬度低，在真空不同温度下摩擦寿命很短；Ti和TiB2复合后，薄膜呈现致密的非晶结构，硬度升高；MoS2-Ti薄膜在低温下(25和100 ℃)下具有优异的摩擦学性能，当温度达到200 ℃以上时，摩擦寿命急剧降低；MoS2-Ti-TiB2复合薄膜在25~300 ℃全温度范围内都保持低的摩擦系数和磨损率，这与其致密的非晶结构、摩擦界面MoS2 (002)晶面有序化以及高硬度耐高温TiB2掺入有关；低温下薄膜以磨粒磨损为主，高温下以擦伤为主.
提供机构：
中国科学院兰州化学物理研究所科学数据中心
创建时间：
2023-08-17
