敏感元件与专用电路一体化-敏感元件的工艺接口数据
收藏国家基础学科公共科学数据中心2026-01-30 收录
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https://nbsdc.cn/general/dataDetail?id=686a8db7195d2621a90dbf8f&type=1
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资源简介:
本数据包含工艺接口中敏感元件与ASIC的一体化工艺步骤,包括牺牲层的性质以及牺牲层的形成工艺,牺牲层PI通孔刻蚀以及连接电路的VIA孔工艺,以及低温溅射铝来实现ROIC与敏感元件的接口互联。类型是文件,共1件。文件采集地点为浙江省绍兴市,采集时间2022年6月至2024年10月,数据来源于芯联集成电路制造股份有限公司的生产线上,逐步将工艺扩开验证,小试/中试/示范工程,完成工艺接口数据的归纳、总结。数据量13.9MB。
提供机构:
芯联集成电路制造股份有限公司



