石墨烯基AlN薄膜质量测试数据集

本数据集系统收录了2020年1月至2024年12月期间，通过石墨烯辅助远程异质外延技术制备的 AlN 薄膜质量相关数据，涵盖晶体结构、位错密度、应力状态及界面特性等核心指标。数据采集基于金属有机化学气相沉积（MOCVD）实验平台，采用 X 射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、拉曼光谱等表征手段，时间精度为单次实验误差 ±1.5 小时，空间精度达原子尺度（0.1 nm）。数据集包含 6 类核心文件：晶体结构数据（XRD 衍射图谱及选区电子衍射图谱）、位错密度统计（高角环形暗场扫描透射电子显微镜分析结果）、应力状态记录（拉曼光谱峰值位移计算数据）、界面特性表征（几何相分析数据及高分辨率 STEM 图像）、实验参数日志（MOCVD 生长条件及环境参数）及重复性验证报告（3 次以上重复实验对比数据）。质量控制通过仪器校准、重复实验及异常值检验实现，数据偏差率≤3.5%。该数据集为宽禁带半导体材料的高质量外延生长提供了关键实验依据，在深紫外光电子器件、高温电力电子器件等领域具有重要应用价值，同时为远程异质外延理论研究提供了系统性数据支撑。