Conjunto de dados para caracterização de Siliceto de Níquel-Platina para uso em tecnologia CMOS

Este conjunto de dados reúne informações primárias obtidas a partir da fabricação e caracterização de filmes finos de siliceto de níquel-platina (NiPtSi) depositados sobre substratos de silício, no contexto de processos de micro e nanofabricação. Os dados abrangem diferentes condições experimentais, incluindo variações de espessura, composição, tratamentos térmicos e parâmetros de processo, organizadas em grupos experimentais sistemáticos. As informações contemplam resultados de múltiplas técnicas de caracterização, como difração de raios X (XRD/GIXRD) para análise estrutural e identificação de fases, microscopia de força atômica (AFM) para avaliação morfológica e de rugosidade, microscopia eletrônica de varredura (SEM) para análise superficial, espectroscopia Raman para investigação de fases e tensões, além de medições elétricas (resistividade por quatro pontas). O conjunto foi estruturado para permitir a correlação entre parâmetros de processamento e propriedades estruturais, morfológicas e elétricas dos filmes, possibilitando análises comparativas, identificação de tendências de formação de fases e avaliação de desempenho dos silicetos formados. Esses dados são adequados para estudos em engenharia de materiais e dispositivos semicondutores, contribuindo para a compreensão dos mecanismos de formação de silicetos, otimização de processos térmicos e desenvolvimento de contatos metálicos avançados para tecnologias CMOS.