"Atomic layer etching of metal-polar aluminum nitride and gallium nitride using SF6 and Cl2/BCl3 plasma" raw data
收藏官方服务：
资源简介：
Raw data of paper "Atomic layer etching of metal-polar aluminum nitride and gallium nitride using SF6 and Cl2/BCl3 plasma"
提供机构：
Zenodo创建时间：
2026-03-12
