Data from plasma diagnosis (05-2020)
收藏Mendeley Data2024-01-31 更新2024-06-28 收录
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https://data.bris.ac.uk/data/dataset/3fb2ydne4072k2rz6uhtyqo1gj/
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资源简介：
Experimental diagnosis and modelling of Si/H and Si/C/H plasmas used in the chemical vapour deposition of Si doped thin film diamond
掺硅金刚石薄膜化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）所用Si/H与Si/C/H等离子体的实验诊断与建模
创建时间：
2024-01-31
搜集汇总
数据集介绍
背景与挑战
背景概述
该数据集包含2020年5月收集的等离子体诊断数据，专注于Si/H和Si/C/H等离子体的实验诊断与建模。这些数据用于支持化学气相沉积（CVD）过程中硅掺杂薄膜金刚石的制备研究，为材料科学和等离子体技术提供关键实验依据。
以上内容由遇见数据集搜集并总结生成
