硬质掩膜的制备方法及硬质掩膜

本发明公开了一种硬质掩膜的制备方法及硬质掩膜，其中，硬质掩膜的制备方法包括：提供一硅片；在硅片的上表面生长第一氮化硅层，同时，在硅片的下表面生长第二氮化硅层；在第一氮化硅层上生长第一氧化硅层；刻蚀第一氧化硅层和第一氮化硅层形成干刻掩膜面；刻蚀第二氮化硅层形成湿刻掩膜面；在干刻掩膜面生长保护层并在保护层上涂覆密封层；在湿刻掩膜面刻蚀图形并预留支撑层；去除密封层和保护层，在干刻掩膜面按照图形刻穿支撑层，得到硬质掩膜。