原子精度单分子结构筑与分子器件功能化

本数据集汇集石墨烯点电极静态单分子结在原子级电极构筑、边缘定点官能化、分子共价桥接及单事件动力学测量中产生的数据，时间范围覆盖2023.01—2025.12。数据包含氢等离子体各向异性刻蚀产生的纳米间隙与边缘形貌的扫描电镜和原子力显微镜数据、石墨烯结构与边缘修饰的拉曼及XPS/红外证据、单分子结I–V与高时间分辨I–t轨迹及其统计分布，并给出酸/碱刺激条件下质子化—去质子化多态跃迁的事件序列、驻留时间分布与速率常数拟合结果。样品从晶向判定与预图案化孔洞制备开始，经高温氢等离子体刻蚀形成分子尺度纳米间隙与锯齿形边缘，再通过原位边缘酰化反应引入羧基位点，最终以缩合反应将氨基端基分子桥接于间隙实现稳定导通。本数据集可用于定量评估点电极几何与边缘化学对器件可重复性的影响并为单分子尺度电输运与化学动力学耦合研究提供基准数据，还可作为标准样本支撑跨体系方法迁移与对照实验设计，有望推动单分子器件走向可标准化制造与工程化应用。