多光源协同曝光跨尺度微纳结构加工与器 件构筑工艺数据集

2016YFA0200501-003多光源协同曝光跨尺度微纳结构加工与器件构筑工艺数据集主要面向跨尺度微纳器件制备研究、跨尺度光刻系统使用指导需求建设，其中，“跨尺度光刻工艺流程规范”基于中国科学院理化技术研究所设计组装调试最终建立 “飞秒激光DMD面投影与飞秒激光直写协同曝光平台”的实际执行人的编写产生；用户使用报告基于中国科学院半导体研究所在中国科学院理化技术研究所建成的“跨尺度光刻平台上”上经过多次实验工艺总结获得，并在中国科学院半导体所经过后续工艺干法刻蚀和热氧化等技术处理、并最终进行低温电学性能测试、光谱性能测试获得的结果总结，主要介绍了跨尺度光刻系统在微纳器件制备等方面的实验工艺流程、及实用效果。