Supplemental Material
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The Supplementary Material includes a detailed description of the fabrication process of the Cr patterned mask. We further present details on ToF - ERDA measurements and the MOKE system.
补充材料详细阐述了Cr图案化掩模的制备过程。此外，我们还提供了关于飞行时间-电子回旋共振能谱测量（ToF-ERDA）和磁光克尔效应测量系统（MOKE）的详细信息。
提供机构：
AIP Publishing
