针对800纳米多晶硅薄膜的片内及片间一致性的采集实验数据

本数据内容来源于课题1的指标1.5，要求膜层厚度800nm（器件规格：800±40nm）的条件下膜层厚度的均匀性<3%，数据内容主要包括研发阶段的实验室数据，小试，中试和示范工程分别是研发成功后将工艺技术逐步应用到各个产品上的四个阶段数据。类型是文件，共2件。其中文件1采用自测试方式，采集地点为浙江省绍兴市，采集时间2023年10月~2024年11月。文件2采用第三方测试的方式进行采集，采集地点为江苏省苏州市，采集时间2023年10月7日~2023年10月25日。数据量1.97MB。

搜集汇总

背景与挑战

背景概述

该数据集聚焦于800纳米多晶硅薄膜的片内及片间一致性实验，采集了研发、小试、中试和示范工程阶段的厚度均匀性数据。实验通过自测试和第三方测试方式，在浙江省绍兴市和江苏省苏州市进行，时间跨度为2023年10月至2024年11月，数据量1.97MB，涵盖pdf和docx格式文件。