SISTEMA DE INYECCIÓN HELICOIDAL 6333 PARA OPTIMIZACIÓN DE DEPOSICIÓN DE CAPAS DELGADAS EN SEMICONDUCTORES

ESPAÑOL: El presente documento establece la prioridad científica e inventiva del Sistema de Inyección Helicoidal 6333, un nuevo diseño de cabezal de ducha para reactores de deposición química en fase vapor y deposición de capas atómicas. El sistema se basa en la inducción de un flujo helicoidal convergente mediante una matriz de microcanales angulados, derivado de los principios matemáticos del Sistema SPU V2.8 (DOI: 10.5281/zenodo.18824394 y corpus asociado). La arquitectura general comprende una placa de distribución con una matriz de orificios dispuestos en patrón de espiral y una inclinación angular específica para generar un Factor de Torsión de Flujo controlado. El sistema está diseñado para aumentar el tiempo de residencia del gas precursor, mejorar la uniformidad de la deposición en obleas de 300 mm y reducir el consumo de precursores y energía. Los parámetros operativos precisos y los secretos comerciales de fabricación asociados a este diseño se reservan para acuerdos de licencia específicos. Este documento se publica bajo licencia CC BY-NC-ND 4.0 para garantizar la atribución a los inventores y reservar todos los derechos de explotación comercial. ENGLISH: This document establishes the scientific and inventive priority of the Helicoidal Injection System 6333, a new showerhead design for Chemical Vapor Deposition and Atomic Layer Deposition reactors. The system is based on inducing a convergent helical flow through an array of angled microchannels, derived from the mathematical principles of the SPU V2.8 System (DOI: 10.5281/zenodo.18824394 and associated corpus). The general architecture comprises a distribution plate with an array of orifices arranged in a spiral pattern and a specific angular inclination to generate a controlled Flow Swirl Factor. The system is designed to increase precursor gas residence time, improve deposition uniformity on 300 mm wafers, and reduce precursor and energy consumption. Precise operational parameters and associated manufacturing trade secrets are reserved for specific license agreements. This document is published under the CC BY-NC-ND 4.0 license to ensure attribution to the inventors and to reserve all commercial exploitation rights.