掺杂型MgO二次电子发射薄膜制备工艺数据

掺杂型MgO二次电子发射薄膜制备工艺数据集主要面向质谱仪用分离打拿极电子倍增器的研发及国产化替代，基于掺杂型MgO薄膜研究而建立，主要收集了2022年1月-2024年5月期间设计的溅射法薄膜沉积工装夹具结构、掺杂型MgO薄膜制备工艺对薄膜二次电子性能影响的实验结果、优化的掺杂型MgO薄膜溅射法制备工艺参数等方面的数据，数据量1 MB。数据产生方法是设计出溅射法薄膜沉积工装夹具，绘制工装夹具结构图；测量氩气与氧气流量比、Si和Cr元素掺杂及在薄膜深度方向上Au掺杂含量梯度渐变对掺杂型MgO薄膜二次电子性能影响的数据，综合优化出掺杂型MgO薄膜溅射法制备工艺参数。本数据集为电子倍增器用高性能二次电子发射薄膜研究提供了数据基础，具有重要的应用价值。