Supplemental Material
收藏DataCite Commons2026-01-08 更新2026-01-12 收录
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资源简介：
Detailed process flow, ellipsometry analysis of the index of refraction, and extended SEM images and analysis for the line and dot patterns exposed in 5k MW PAA films.
提供机构：
AIP Publishing
创建时间：
2026-01-08
