氧化钨器件电学研究
收藏国家基础学科公共科学数据中心2024-03-05 收录
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资源简介:
提出了一种使用具有独特隧道结构的 WO3 的电解质门控晶体管,可以模拟生物突触的离子调制过程。 该晶体管成功地实现了短期和长期可塑性的突触功能。在低偏压下借助电解质离子动力学模拟短期可塑性,而在高偏压下使用质子插入 WO3 实现长期可塑性。这是一种新的工作方法,使用不同的栅极电压幅度来控制从短期记忆到长期记忆的过渡,用于人工突触。其他基本的突触行为,如成对脉冲促进、突触重量的抑制和增强,以及脉冲时间依赖的可塑性也在这个人工突触中实现。这些结果为通过静电和电化学效应设计突触电解质门控晶体管提供了新方法
A novel electrolyte-gated transistor using WO3 with a unique tunnel structure is proposed, which can simulate the ion modulation process of biological synapses. This transistor successfully realizes the synaptic functions of short-term and long-term plasticity. Short-term plasticity is simulated via electrolyte ion dynamics under low bias voltage, while long-term plasticity is achieved through proton insertion into WO3 under high bias voltage. This represents a new working approach that uses different gate voltage amplitudes to control the transition from short-term memory to long-term memory for artificial synapses. Other fundamental synaptic behaviors, including paired-pulse facilitation, synaptic weight depression and enhancement, as well as spike-timing-dependent plasticity (STDP), are also realized in this artificial synapse. These results provide a new method for designing synaptic electrolyte-gated transistors via electrostatic and electrochemical effects.
提供机构:
国家基础学科公共科学数据中心
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数据集介绍

背景与挑战
背景概述
该数据集聚焦于氧化钨(WO3)电解质门控晶体管的研究,该器件模拟生物突触的离子调制过程,实现了短期和长期可塑性等突触功能。其关键特点是通过不同栅极电压幅度控制从短期记忆到长期记忆的过渡,并展示了成对脉冲促进、抑制增强等基本突触行为,为设计突触电解质门控晶体管提供了新方法。
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