MoS2_Based_无氧化MoS2薄膜合成界面机制研究数据

本数据集记录了无氧化MoS2薄膜的新型合成方法及界面机制研究相关数据。研究采用无硫化溶液法与单步退火工艺，在Si3N4表面制备出均匀薄膜，包含薄膜结构表征、XPS分析等原始数据，共7个文件，支持先进电子器件用无氧化MoS2薄膜合成研究。 论文“Solution-Based Synthesis of Oxide-Free MoS2 Film: Exploring Interface Mechanisms”