DC级联型模式复用器模拟及验证数据集

围绕国家信息领域中高端光电子芯片与器件国产化等国家战略性需求，开展模式复用/解复用的研究，模式多路复用器/解复用器（MUX/deMUX）是模式划分的关键元件多路复用。由四个级联定向耦合器组成的二氧化硅波导模式 MUX 是实验证明。在器件设计中使用了光束传播方法，优化。热氧化、等离子体增强化学气相沉积和紫外线光刻技术用于二氧化硅波导模式 MUX 制造。测量结果证明，输入的 E00 模式可以选择性地转换为 E10 模式、E20 模式和 E30 模式模式。在 1500 至 1620 nm 的波长范围内，插入损耗小于 12.2 dB。这建议的模式 MUX 在片上 MDM 应用中具有良好的潜力。

搜集汇总

背景与挑战

背景概述

该数据集聚焦于国家信息领域高端光电子芯片国产化需求，针对模式复用/解复用技术进行研究，提供了基于二氧化硅波导的级联定向耦合器模式多路复用器的模拟与验证数据。通过优化设计和制造工艺，实现了E00模式向高阶模式的选择性转换，在1500至1620 nm波长范围内插入损耗低于12.2 dB，展现出在片上模分复用应用中的良好潜力。