基于SSiC-M120D配副的不同表面形态构筑下磨损性能分析
收藏中国科学院兰州化学物理研究所科学数据中心2023-08-09 更新2024-04-26 收录
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资源简介：
采用激光加工织构化图案和热丝化学气相沉积法(CVD)的方式在无压烧结碳化硅(SSiC)表面制备了无织构金刚石薄膜(SSiC-D)和螺旋槽织构复合金刚石薄膜(SSiC-DC) 试样. 研究了SSiC-M120D配副在不同表面形态下的摩擦磨损性能，结合扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和拉曼光谱以及X射线衍射(XRD)分析其磨损机理. 结果表明：镀金刚石薄膜使碳化硅试样摩擦表面的黏着磨损和磨粒磨损程度明显减少，试验后碳元素含量仍保持在90%以上，SSiC-D/M120D和SSiC-DC/M120D的摩擦系数显著降低，同时端面温度分别为64.3和61.2 ℃，较SSiC/M120D的161.2 ℃分别下降了60.11%和62.03%. 试验后磨痕处的ID/IG仅分别为0.86和0.94，表面缺陷程度较小. 采用螺旋槽织构复合金刚石薄膜配对方式的摩擦副SSiC-DC/M120D摩擦学性能最佳，微织构有利于散热和存储磨屑，可进一步减少表面黏着磨损，试验后的磨损率最低.
提供机构：
中国科学院兰州化学物理研究所科学数据中心
创建时间：
2023-08-09
