Conjunto de dados experimentais e computacionais da deposição de fotorresiste AZ5214E por blade coating em substrato de silício
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https://redu.unicamp.br/citation?persistentId=doi:10.25824/redu/MUPJAW
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Este conjunto de dados reúne as informações experimentais, imagens e códigos computacionais associados à dissertação “Deposição de resiste fotossensível em lâmina de silício usando a técnica de blade coating”, defendida na Universidade Estadual de Campinas (Unicamp). Os dados documentam todas as etapas do processo de deposição e caracterização do fotorresiste AZ5214E, incluindo: Clivagem das lâminas de silício e caracterização dimensional dos fragmentos; Configuração experimental de deposição e fixação por vácuo; Medições de espessura e uniformidade por refletometria (Filmetrics F40-UV); Imagens ópticas das amostras e comparativos entre lotes; Análises litográficas com exposição, revelação e inspeção microscópica; Modelagem teórica e ajuste experimental segundo o modelo de Landau–Levich; Códigos MATLAB e Python para geração de gráficos, mapas de espessura e estatísticas. O repositório está organizado em módulos independentes, cada um documentado com arquivo README.md, contendo o contexto experimental, estrutura dos dados, parâmetros físicos e licença de uso.
提供机构：
. Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação)
创建时间：
2025-01-01
