Three-Dimensional Phase-Field Simulation of Grain Evolution in Physical Vapor Deposited Pure Ti Thin Film

结合相场方法和移动边界方法，对不同沉积速率和晶粒取向下物理气相沉积Ti薄膜的生长和晶粒演化进行了三维相场模拟，同时考虑了其形貌和晶粒取向的演化。模拟结果表明：在较低沉积速率下形成的Ti薄膜表面存在明显取向的纹理结构，Ti薄膜表面粗糙度与晶粒取向差呈正相关；同时，模拟获得的表面粗糙度与实验结果吻合较好。