CMOS和超陡摆幅新器件混合集成工艺技术
收藏国家基础学科公共科学数据中心2026-01-30 收录
下载链接:
https://nbsdc.cn/general/dataDetail?id=67424275195d262b8b446ec8&type=1
下载链接
链接失效反馈官方服务:
资源简介:
该数据集为开发TFET-CMOS平台试验晶圆相关器件切片照片,数据来源为中芯北方集成电路制造(北京)有限公司生产线和失效分析系统,包括了各片晶圆的工艺试验(不同隔离结构)测试原始数据,采集时间为2022-07至2023-08,数据量约为43MB,包含了文件、表格及图片。
提供机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
搜集汇总
数据集介绍

背景与挑战
背景概述
该数据集包含TFET-CMOS平台试验晶圆的器件切片照片及工艺测试原始数据,源自中芯北方集成电路生产线,采集于2022年7月至2023年8月。数据涉及超陡摆幅低功耗集成电路技术,涵盖图片、表格等多种文件格式。
以上内容由遇见数据集搜集并总结生成



