对准套刻工艺数据集

背景：实现零级衍射防伪图案的方案有两种，一是干涉光刻，采用自主研发的紫外纳米干涉光刻设备；二是全息拍照，通过搭建大尺寸全息拍照光路平台来实现纳米光栅结构模具。实现彩色3D动感图像的方法是灰度光刻。为实现高分辨率彩色3D动感防伪图案的一体化制备，需要针对不同光学纹理结构的光刻方法进行套准光刻。本数据集采用自主研发的紫外三维直写光刻机来实现具有连续面型的菲涅尔及斜坡结构。数据采集时间及地点：数据采集时间为2023年-2025年。在苏大维格光刻实验室完成。数据格式jpg，100MB。

搜集汇总

背景与挑战

背景概述

该数据集聚焦于微纳加工中的对准套刻工艺，用于实现高分辨率彩色3D动感防伪图案的一体化制备，涉及紫外纳米干涉光刻和全息拍照等技术。数据采集于2023年至2025年在苏大维格光刻实验室完成，包含66个文件，总大小约102MB，主要格式为图像文件（如JPG）。