大面积光刻胶旋涂成膜均匀性影响机制研究数据

本数据集围绕大面积光刻胶薄膜旋涂成膜的膜厚均匀性提升需求开展，重点关注大面积旋涂过程中膜厚不均匀性特征的影响因素及其演化机理。使用大面积矩形基板进行光刻胶旋涂实验并进行大面积扫描膜厚测试，设置不同转速、加速度和旋涂时间等工艺参数，获取多组工况下的膜厚分布数据，研究膜厚均匀性特征随工艺参数变化的规律。结合控制变量实验与正交实验方法，进一步构建工艺参数、装备运动特性以及旋涂腔室对膜厚均匀性影响规律。通过腔室溶剂扩散模型与跨尺度气液耦合模型，获得溶剂蒸发浓度场与膜厚演化过程的数值结果，与实验数据实现对应验证。数据集包含2020年-2025年间，旋涂膜厚空间分布数据、膜厚不均匀性影响规律数据以及旋涂膜厚不均匀性演化机理三个子数据集，数据格式包括数值表格、模型输出、图形与研究报告。本数据集可用于大面积光刻胶旋涂工艺研究、工艺参数优化、装备研发与模型验证等场景，对大面积光刻胶高均匀性旋涂成膜技术及相关高端光学制造具有重要应用价值与参考意义。本数据集的数据量为305 Mb。