基于ADMM的反演光刻优化算法研究数据集

本数据集包含2021-2025年期间完成的基于交替方向乘子法(ADMM)的反演光刻优化算法研究的全部数据成果。该研究基于傅里叶光学理论构建光刻系统数学模型，设计了针对非凸非光滑优化问题的ADMM算法框架，通过直接处理阈值截断成像函数推导出V子问题的解析解，并在不同参数配置和成像条件下进行了多图案优化实验。数据集按研究内容分为三个子文件夹：光刻系统建模与目标掩膜版设计、ADMM算法的理论分析与实现、多图案下的光刻优化实验。系统参数为波长λ=193nm，数值孔径NA=0.85，像素大小=5nm，点扩散函数尺寸=100×100像素。数据质量控制通过严格系统参数设置和边缘放置误差(EPE)评价实现。本数据集对推进半导体制造中的反演光刻问题研究、优化掩模设计以及提升成像保真度具有重要价值。总数据量约2MB。