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一种1550nm波段单光子源的制备方法及单 光子源和光学器件

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本发明公开了一种1550nm波段单光子源的 制备方法及单光子源和光学器件,本发明通过在 SiC晶圆<0001>面制备氧化硅层;离子注入;沿氧 化硅表面与另一带氧化硅介质层的SiC衬底键 合;退火剥离,将SiC薄膜转移至SiC衬底上;在 SiC薄膜上制备掩膜,去除掩膜图案以露出SiC薄 膜部分;V离子注入,再去除掩膜区域;

创建时间:
2023-05-23
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