耦出光栅占空比测量数据

针对衍射光波导的均匀性问题，通过变光强扫描曝光，可以有效改变光刻胶掩模的占空比，即可以做占空比更均匀的光栅，也可以做变占空比光栅。本数据集为衍射光波导耦出光栅光刻胶掩模占空比测量，主要是相对静止曝光，说明了变光强扫描曝光对占空比均匀性的改善。数据集包括扫描电镜图，原子力显微镜图，占空比测量方法说明，测量结果，曝光部件结构图，以及制作变占空比光栅时的占空比变化范围。