Al掺杂Ag薄膜超薄成膜技术研究数据

针对目前市场主流的透明电极ITO本身原材料产量较低，其厚度、导电性能存在难以突破的瓶颈导致成本偏高、导电性差，无法同时具备低电阻和高透光性等问题，开发一种超薄、柔性佳同时具备高透光、低电阻的Al掺杂Ag金属基透明电极。数据主要包含 Al掺杂Ag薄膜成膜形貌、掺杂尺度、掺杂阈值、磁控溅射工艺等对Ag薄膜光电性能的影响数据。数据通过项目承担单位的研发、生产和测试设备或者合作单位测试设备采集并进行简单计算，数据量2.5MB。