การศึกษาเปรียบเทียบสมบัติทางอิเล็กโตรโครมิคของฟิล์มนิกเกิลออกไซด์ที่เตรียมโดยเทคนิคอ่างเคลือบสารเคมีและการเคลือบแบบจุ่ม

ฟิล์มนิกเกิลออกไซด์ (NiO) แบบโครงสร้างเดี่ยวและโครงสร้างผสมถูกเตรียมลงบนกระจก ITO โดยฟิล์มโครงสร้างเดี่ยวเตรียมด้วยวิธีอ่างเคลือบสารเคมี (chemical bath deposition, CBD) และวิธีจุ่มเคลือบ (dip coating, DC) มีเงื่อนไขที่ความเข้มข้นและจำนวนชั้นในการเคลือบต่างกัน ตามลำดับ ส่วนฟิล์ม NiO แบบโครงสร้างผสมถูกเตรียมด้วยวิธี CBD ผสม DC โดยมีลำดับในการเคลือบต่างกันคือ CBD/DC และ DC/CBD โดยนำฟิล์ม NiO ทั้ง 2 โครงสร้างไปตรวจสอบสมบัติทางโครงสร้างด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ชนิดฟิลด์อีมิสชัน (field emission scanning electron microscope, FE-SEM) และเทคนิควิเคราะห์การเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ (X-Ray Diffraction, XRD) วิเคราะห์องค์ประกอบของธาตุบนพื้นผิวด้วยเทคนิคการวิเคราะห์ด้วยรังสีเอกซ์แบบกระจายพลังงาน (energy dispersive X-ray spectroscopy, EDS) ตรวจสอบสมบัติทางแสงและสมบัติทางอิเล็กโตรโครมิคด้วย เครื่องวัดการส่งผ่านแสงในช่วงอัลตร้าไวโอเล็ต และช่วงตามองเห็น (uv-visible spectrophotometer, UV-Vis สเปกโตรโฟโตมิเตอร์) และเทคนิคไซคลิกโวลแทมเมตรี (cyclic voltammetry, CV) ตามลำดับ โดยสมบัติทางแสงและสมบัติทางอิเล็กโตรโครมิคของฟิล์ม NiO ถูกทดสอบในสารละลายโปรแตสเซียมไฮดรอกไซด์ (KOH) ความเข้มข้น 1 M จ่ายความต่างศักย์ในช่วง -1 ถึง 1 V ฟิล์ม NiO แสดงโครงสร้างผลึกในระนาบ (111) (200) และ (220) ลักษณะทางสัณฐานวิทยาของฟิล์ม NiO แบบโครงสร้างเดี่ยวที่เคลือบด้วยวิธี CBD และ DC มีลักษณะโครงสร้างนาโนเป็นรูพรุนและอนุภาค ตามลำดับ ส่วนฟิล์ม NiO แบบโครงสร้างผสมลักษณะทางสัณฐานวิทยาที่ปรากฏของฟิล์มจะขึ้นอยู่กับวิธีสุดท้ายในการเคลือบ ซึ่งมีลักษณะเป็นรูพรุนหรืออนุภาค ผลการตรวจสอบสมบัติทางแสงของฟิล์ม NiO แบบโครงสร้างเดี่ยวจากการคำนวณค่าความต่างระหว่างการเกิดสีและการจางสีของวิธี CBD และ DC ด้วยเงื่อนไขที่ดีที่สุดมีค่าเท่ากับ 56.03% และ 27.59% ตามลำดับ ส่วนฟิล์ม NiO แบบโครงสร้างผสมค่าความต่างระหว่างการเกิดสีและการจางสีของทั้งสองเงื่อนไข (CBD/DC หรือ DC/CBD) มีค่าใกล้เคียงกันคือ 53.29% และ 51.4% ตามลำดับ และผลจากการทดสอบ CV พบว่าฟิล์ม NiO โครงสร้างผสมที่เตรียมแบบ DC/CBD มีความเสถียรและคงทนมากที่สุด