超大非圆基板旋涂膜厚演化机理研究数据

本数据集围绕超大非圆基板旋涂膜厚演化机理的探究开展，聚焦矩形基板旋涂过程中膜厚演化的关键影响因素与内在机制。通过同心圆筒流变仪等仪器获取了光刻胶溶液粘度、接触角、表面张力及溶剂挥发速率等基础数据，系统研究了所用光刻胶溶液的流变特性、界面特性、溶剂挥发特性等对旋涂膜厚演化过程至关重要的性质，建立了气液界面挥发特性模型。进一步通过不同尺寸基板实验与数值模拟相结合的方法探究了基板尺寸、几何形状、空气剪切流场等对旋涂膜厚演化的影响规律。数据集包含2020年-2025年间的光刻胶溶液与界面特性参数的测试数据与模型、矩形基板旋涂膜厚演化影响因素数据两个子数据集，数据格式包括数值表格、模型输出、图形与研究报告。本数据集可为光刻胶流变及界面特性研究、超大非圆基板旋涂工艺优化、膜厚预测模型构建等提供关键数据支撑，对推动超大非圆基板光刻胶旋涂技术发展具有重要理论与工程价值。本数据集的数据量为56 MB。