耦入光栅刻蚀仿真与分析数据

刻蚀仿真可以模拟刻蚀过程中槽形的演变过程，以根据所工的槽形，确定初始光刻胶掩模。对控制光栅槽形非常重要。本仿真主要针对离子束刻蚀工艺的需求，基于刻蚀速率和线段模型进行。本数据集包括仿真模型假设，仿真原理和公式，以及根据工艺加工给出的仿真条件，最后进行仿真，得到仿真结果，并对其进行了分析。