"Atomic layer etching of metal-polar aluminum nitride and gallium nitride using SF6 and Cl2/BCl3 plasma" raw data
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Raw data of paper "Atomic layer etching of metal-polar aluminum nitride and gallium nitride using SF6 and Cl2/BCl3 plasma"
论文《使用六氟化硫（SF6）与氯气/三氯化硼（Cl2/BCl3）等离子体进行金属极性氮化铝（metal-polar aluminum nitride）与氮化镓（gallium nitride）的原子层刻蚀（Atomic layer etching）》的原始数据
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2026-03-12
