Thermal Atomic Layer Etching of Aluminum Oxide by Hydrogen Fluoride and Trimethylaluminum: First-Principles Study
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资源简介：
Coordinate data set from the DFT calculation of the atomic layer etching reactions.
原子层刻蚀反应的密度泛函理论（Density Functional Theory, DFT）计算所得坐标数据集
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Zenodo创建时间：
2025-05-02
