Mikrostruktura materiálů Ampcoloy 940 a Albromet W130

<strong>Metalografické preparáty</strong> byly připraveny běžnými technikami – broušením za mokra a leštěním diamantovými pastami pomocí automatického preparačního systému Tegramin 30 firmy Struers. Topografie takto připraveného povrchu dosahovala Ra=5 nm, což je dostatečné pro následné materiálové analýzy. Pro zviditelnění mikrostruktury byl preparát leptán leptadlem obsahujícím 50 ml H₂O a 50 ml HNO₃. Materiál AMPCOLOY 940 byl takto leptán po dobu 8 s a materiál ALBROMET W130 po dobu 30 s. <strong>Analýza mikrostruktury</strong> byla provedena u obou materiálů, přičemž byla provedena jak použitím světelné mikroskopie (LM) na přístroji značky Zeiss tak i užitím elektronové mikroskopie (SEM) na mikroskopu značky Tescan pomocí detektoru zpětně odražených elektronů (BSE). Při použití světelné mikroskopie bylo zvětšení vždy 20x a následně 50x. Při užití elektronové mikroskopie bylo zvětšení 1000x.<strong>金相试样</strong>采用常规工艺制备——通过Struers公司Tegramin 30型自动金相制备系统，以湿磨与金刚石研磨膏抛光的流程完成制备。经该工艺制备的试样表面粗糙度可达Ra=5 nm，足以支撑后续的材料分析工作。为清晰显现显微组织，试样采用由50 mL H₂O与50 mL HNO₃组成的腐蚀剂进行腐蚀处理：AMPCOLOY 940材料的腐蚀时长为8 s，ALBROMET W130材料的腐蚀时长为30 s。<strong>显微组织分析</strong>环节针对两种材料均开展了测试，分别使用Zeiss品牌的光学显微镜（Light Microscopy，LM），以及配备背散射电子探测器（Backscattered Electron Detector，BSE）的Tescan品牌扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscopy，SEM）完成观测。使用光学显微镜时，放大倍率依次设置为20倍与50倍；使用扫描电子显微镜时，放大倍率设置为1000倍。