Supporting Information

See the supplementary material for the XRD patterns, morphological scans, and PFM ferroelectric polarization tests of AlScN films with different Sc doping ratios; the I-V characterization curves of AlScN thin films under different Sc target sputtering powers; and the mathematical description of weight modulation in the STDP circuit model.

请参阅补充材料，其中包含不同钪（Sc）掺杂比例的铝钪氮（AlScN）薄膜的X射线衍射（XRD）图谱、形貌表征扫描以及压电力显微镜（PFM）铁电极化测试数据；不同钪靶溅射功率下铝钪氮薄膜的电流-电压（I-V）特性曲线；以及脉冲时间依赖可塑性（STDP）电路模型中的权重调制数学描述。