Depoosition rate of nanooparrticles forr diferent sputtering coonditions

Deposition rate for different pressure values at frequency = 1000 Hz and mean power P = 40 W. Deposition rate for different mean power at pressure of 20 Pa and pulse length of 50 µs. Deposition rate for different frequencies at a pressure of 20 Pa and a mean power of 40 W

本数据集包含三组沉积速率（Deposition rate）测试数据：频率为1000 Hz、平均功率P=40 W时，不同气压条件下的沉积速率；气压为20 Pa、脉冲长度为50 µs时，不同平均功率下的沉积速率；气压为20 Pa、平均功率为40 W时，不同频率下的沉积速率。