Artifact for Reducing Write Barrier Overheads for Orthogonal Persistence
收藏Zenodo2024-09-20 更新2026-05-26 收录
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https://zenodo.org/doi/10.5281/zenodo.13738595
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资源简介：
This is the artifact for the paper "Reducing Write Barrier Overheads for Orthogonal Persistence" accepted by the ACM SIGPLAN International Conference on Software Language Engineering (SLE) 2024.
本数据集为2024年ACM SIGPLAN软件语言工程国际会议（ACM SIGPLAN International Conference on Software Language Engineering，缩写SLE）所收录论文《面向正交持久化的写屏障（Write Barrier）开销缩减》的配套研究工件。
提供机构：
Zenodo创建时间：
2024-09-10
