Patent AT-E400672-T1: [Translated] METHOD FOR FORMING AN ANTIREFLECTION COATING
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Silsesquioxane resins useful in forming the antireflective coating having the formula (PhSiO(3-x)/2(OH)x)mHSiO(3-x)/2(OH)x)n(MeSiO(3-x)/2(OH)x)p(RSiO(3-x)/2(OH)x)q...
可用于制备抗反射涂层（antireflective coating）的倍半硅氧烷树脂（Silsesquioxane resins），其分子式为：(PhSiO(3-x)/2(OH)x)mHSiO(3-x)/2(OH)x)n(MeSiO(3-x)/2(OH)x)p(RSiO(3-x)/2(OH)x)q…
