In2O3:F 薄膜原子层沉积生长与结构表征数据集

该数据集基于原子层沉积工艺制备的超薄 In2O3薄膜，并通过 CF4 等离子体处理实现不同程度的氟掺杂，系统收集了薄膜在不同氟化处理条件下的原子层沉积生长速率、表面形貌以及微观结构信息。数据集包括薄膜生长速率随前驱体剂量与生长条件变化的数据、原子力显微镜（AFM）表征的表面形貌图像、高分辨透射电子显微镜（TEM）及对应电子衍射图像，以及能量色散谱（EDS）元素分布数据。

搜集汇总

背景与挑战

背景概述

该数据集收录了利用原子层沉积工艺制备并通过CF4等离子体处理进行氟掺杂的超薄In2O3薄膜的生长与结构表征数据。内容涵盖不同氟化程度下薄膜的生长速率变化、原子力显微镜表面形貌图像、高分辨透射电镜及其电子衍射图像，以及能量色散谱元素分布信息，系统反映了氟掺杂对薄膜微观结构的影响。