In2O3:F 薄膜化学组成与能带结构数据集

该数据集基于原子层沉积制备的In2O3薄膜，并通过 CF4等离子体处理引入不同程度的氟掺杂，系统采集了不同氟化处理条件下薄膜的 X 射线光电子能谱（XPS）、紫外–可见吸收光谱（UV-Vis）以及紫外光电子能谱（UPS）数据。

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背景与挑战

背景概述

该数据集以原子层沉积制备的In2O3薄膜为基础，通过CF4等离子体处理实现不同程度的氟掺杂，并系统采集了不同氟化条件下薄膜的X射线光电子能谱、紫外-可见吸收光谱和紫外光电子能谱数据。这些数据为研究氟掺杂对In2O3薄膜化学组成与能带结构的影响提供了基础信息。