NCD/Si抗碱ATR-SEIRAS解析Cu-CORR机制数据集

电化学衰减全反射表面增强红外吸收光谱（ATR SEIRAS）在分子水平解析界面反应机理中发挥重要作用。然而，硅内反射元件易被氢氧根离子腐蚀刻蚀，严重阻碍了强碱性电解质中可靠的 SEIRAS 测试。本文通过热丝化学气相沉积法，在微加工硅片上成功制备厚度约 120 nm、致密且化学惰性的纳米金刚石（NCD）薄膜，隔绝氢氧根刻蚀。在 Au/NCD/Si 薄膜电极上，于 1.0 mol・L⁻¹ KOH 溶液中获得无硅氧键光谱干扰的可逆界面水信号。以铜薄膜电极上电化学一氧化碳还原反应为模型反应，在 0.1~3.0 mol・L-1 不同浓度 KOH 中开展研究。结果表明，随电解 pH升高，线式吸附一氧化碳（COL）峰位红移、强度降低且消耗动力学加快；桥式吸附一氧化碳（COB）为惰性旁观物种并在铜表面累积。本工作证实金刚石 / 硅复合内反射元件的耐碱性，可作为强碱性介质中电催化反应研究的有力平台。