化学气相沉积碳化硅致密层测试数据
收藏国家基础学科公共科学数据中心2026-06-28 收录
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“2021YFB3703100-007化学气相沉积碳化硅致密层测试数据”数据集来源于国家重点研发计划项目“基于激光选区烧结增材制造的超轻型碳化硅复合材料光学部件制造技术”（项目编号：2021YFB3703100），对应项目任务书中主要成果3“‘增材痕迹’表面碳化硅致密层多场效应生长与微观结构调控技术”。该数据集涵盖试验过程中产生的 X 射线衍射数据、表面粗糙度数据、电子背散射衍射数据、光学显微镜数据、结合力数据、拉曼光谱数据、纳米压痕数据、扫描电子显微镜数据、透射电子显微镜数据、微计算机断层扫描数据及硬度数据，并收录了基于这些数据和实验结果形成的测试报告、相关论文与专利成果。数据集系统记录了化学气相沉积碳化硅致密层的微观结构、力学和表面性能特征，为分析致密层生长机理、界面结合力、材料微观组织及性能优化提供了实验依据和数据支撑，数据量20.08GB。
提供机构：
武汉理工大学
