光电镊芯片的微流道制备与测试数据集

光电镊(OET)系统已成为单细胞操控与分析领域的重要平台。其核心部件——光电镊芯片的微流道的制备质量直接决定了芯片的性能与可靠性。本研究系统性地整理、描述并公开了一个关于OET芯片微流道制备的数据集。该数据集时间范围为2022-2024年，包含了关键制备流程的参数记录、微流道结构的显微镜图像以及通过台阶仪测量的微流道厚度数据。微流道制备的关键参数由人工记录和设备日志数据共同组成，并根据微流道的制备结果确定最优参数。微流道制备完成后，通过显微镜拍摄整体和细节图像，并使用台阶仪测量微流道尖点和小室的轮廓数据。数据质量通过环境控制、设备校准、自动化处理及双重人工验证，确保其可靠。该数据可用于微流道制备工艺优化和缺陷分析，光电镊芯片制造标准化参考，以及微纳加工教学案例等，在科研、工程和教育方面具有重要价值。