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针对400微米刻蚀深度的刻蚀均匀性采集实验数据

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国家基础学科公共科学数据中心2026-01-30 收录
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https://nbsdc.cn/general/dataDetail?id=686a8daf195d2621a90dbf81&type=1
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资源简介:
本数据内容来源于课题1的指标1.4,要求刻蚀深度400微米(器件规格:400微米±20微米)的条件下刻蚀均匀性<3%,数据内容主要包括研发阶段的实验室数据,小试,中试和示范工程研发成功后将工艺技术逐步应用到各个产品上的四个阶段数据。类型是文件,共2件。其中文件1采用自测试方式,采集地点为浙江省绍兴市,采集时间2023年10月~2024年11月。文件2采用第三方测试的方式进行采集,采集地点为江苏省苏州市,采集时间2023年10月7日~2023年10月16日。数据量2.12MB。
提供机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
搜集汇总
数据集介绍
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背景与挑战
背景概述
该数据集包含针对400微米刻蚀深度条件下刻蚀均匀性的实验采集数据,主要来源于研发阶段的实验室测试、小试、中试和示范工程等四个阶段。数据通过自测试和第三方测试两种方式采集,地点分别位于浙江省绍兴市和江苏省苏州市,时间跨度为2023年10月至2024年11月。数据集总大小为2.12MB,包含3个文件,格式为PDF和DOCX。
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