高精度纳米片沟道释放工艺数据集

本研究提出了一个应用于GAA CMOS的高精度纳米片沟道释放工艺数据集，根据研究内容划分为三个子数据集：1、基于中国科学院微电子研究所集成电路先导中心的CMOS工艺线平台，制备用于研究的纳米片沟道释放结构片晶圆工艺流程单；2、针对纳米片释放工艺测试获得的SEM图实验数据，以及实验数据分析；3、针对纳米片释放工艺测试获得的TEM图实验数据，以及实验数据分析。数据集的潜在应用价值主要是可应用于GAA CMOS器件的纳米片释放工艺技术方面为研究者提供可靠的技术方案和数据支撑。