原子级刻蚀缺陷去除方法及在线监测数据集

本数据集面向原子层沉积前处理和射频等离子体辅助腔体系统技术开发需求建设，主要包括机械图纸、设备实物照片、沉积数据以及等离子体及晶圆尺寸数据。其中沉积数据集主要面向芯片先进制程的选择性原子层沉积工艺与装备研究、8–12英寸大硅片沉积均匀性验证需求建设，基于华中科技大学集束原子层沉积观测站圆偏振光谱仪传感器产生，主要记录了12英寸硅片49点薄膜厚度、沉积薄膜均匀性、测量精度等观测值，测得沉积的不均匀性小于2％；射频输出数据由华中科技大学利用功率计、功率传感器等标准设备测试射频等离子体发生器的设定功率、实际输出功率和监视电压信号所得，记录了1500W至100W共9个功率档位下射频功率源的实际输出与设定值的对比，以及不同功率档位对应的监视电压实际值与设定值的对比。